[新聞] Pat Gelsinger：英特爾委外代工不可缺，

原文標題：
Pat Gelsinger：英特爾委外代工不可缺， Intel 18A 不用 High-NA EUV


原文連結：
https://bit.ly/3UhMSct

發布時間：
January 31, 2024

記者署名：by Atkinson


原文內容：

日前，英特爾執行長 Pat Gelsinger 在財報會議上回應了分析師有關外部代工與 High-NA
EUV 應用的提問時表示，外部代工仍是英特爾不可或缺的一環。另外，已經獲得業首套 Hig
h-NA EUV 曝光機的英特爾，將會在比Intel 18A 節點製程更先進的製程中來使用。

外電報導，Pat Gelsinger 表示，雖然未來外部代工量會減低，但其仍是英特爾晶圓製造發
展路線中不可或缺的一部分。他強調，隨著自家晶圓廠 ｢4 年 5 節點｣ 策略的穩健發展
，自家的製程技術競爭力也隨之提升，這使得英特爾未來將會有更多產品採用自有晶圓廠製
造。

但是即便如此，使用外部代工廠來進行委外代工，也一直將是英特爾發展策略的重要部分。
所以，英特爾將繼續保持使用委外代工的推進，這樣研發團隊就始終可以使用業界領先的技
術來生產產品。而在被問及 High-NA EUV 霧光機應用的問題時，Pat Gelsinger 則是強調
，不會在 Intel 18A 節點製程使用 High-NA EUV 曝光機，而是留到下一個更先進的節點製
程上。

Pat Gelsinger指出，英特爾不會將 High-NA EUV 曝光機導入 Intel 18A 節點製程的原因
，在於到入時的風險。Pat Gelsinger進一步表示，在重新將英特爾的內部工製程技術推至
世界領先的過程中，風險管控是重要一環，這原因延遲了High-NA EUV 曝光機的應用。Pat
Gelsinger 還確認，將在 2 月 21 日首次舉行的 IFS Direct Connect 活動上，預計將透
露更多有關 High-NA EUV 曝光機應用的資訊。

(首圖來源：科技新報攝)

心得/評論：

「Pat Gelsinger 表示，雖然未來外部代工量會減低」


這個是在壯膽，還是真的？

難道今天台積跌這個？

看來是鐵了心要擁抱晶圓廠了！

2021開始4年內5node真的有順利？
我怎覺得2025年快到了 還在intel4

Intel3 / 20A /18A 在哪邊？



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