[新聞]避免美日材料大廠卡脖子，中國推動國產光

避免美日材料大廠卡脖子，中國推動國產光阻供應鏈

https://technews.tw/2024/12/18/china-photoresist/

隨著中國半導體產業邁向自給自足，不僅要開發精密的晶片製造工具，還要開發高純度光
阻劑，這對製造先進晶片相當重要。根據研調機構 TrendForce 報告，中國今年在光阻發
展有顯著進步，主要受政府支持，以及當地晶片製造商需求增加。

半導體光阻劑主要用於生產離散元件、LED 和積體電路。透過縮短曝光波長來提高解析度
，實現更高密度的IC。根據曝光波長分類，包括寬頻 UV（300-450nm）、g 線（g-line，
436nm）、i 線（i-line，365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）和電
子束類型。

其中，KrF、ArF 和 EUV 光阻劑純度最高、擁有最先進技術，核心技術主要由來自日本及
美國的大廠主導，如 JSR、日本東京應化工業（Tokyo Ohka Kogyo）、信越化學、住友化
學、富士軟片（Fujifilm）及杜邦（DuPont）等龍頭企業掌控。

中國公司如上海新陽、彤程（Rachem）和徐州博康（Bcpharma）在入門級光阻劑取得進展
，但由於技術挑戰和起步較晚，高階市場競爭力有限。目前中國國內光阻劑滲透率仍低，
g-line 和 i-line 光阻劑滲透率約 20%，KrF 低於 5%、ArF 更是低於 1%。

不過，也有中國企業在高階光阻劑上大步前進。 湖北鼎龍最近宣布其浸沒式 ArF 及
KrF 晶圓光阻劑產品順利通過客戶驗證，成功獲得兩間中國晶圓廠訂單，總金額超過百
萬人民幣（約 13.7 萬美元）。

根據湖北鼎龍公告，公司針對 KrF、 ArF 光阻劑的技術要求設計單體結構、樹脂結構、
配方等，提高純化、過濾、混配等工藝等級，開發出 KrF、ArF 光阻劑專用樹脂及其高純
度單體、光致產酸劑等關鍵材料以及光阻劑產品，實現從關鍵材料到光阻劑產品自主可控
的全流程國產化，符合下游客戶產業鏈供應鏈安全自主可控的需求。

另一間深圳容達收到中國深交所審核通過，獲得 2.44 億人民幣（約 3,350 萬美元）私
募配售的批准，可以簡易形式向特定對象發行 904.71 萬股，發行價格為每股 26.97 人
民幣，募集資金 2.44 億人民幣。扣除相關發行費用後，將全部用於高階感光線路乾膜光
阻劑建設專案、IC 載板阻焊乾膜光阻劑，及支援研發成本和營運需求。

TrendForce 認為，中國政府大力支持半導體及原物料產業發展，推出扶持光阻產業的政
策，都不斷加速該領域研發和生產，實現核心技術的中國國產替代品。

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